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題 名 | 下世代微影技術之進展與挑戰(下)=NGL Progresses and Challenges (2) |
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作 者 | 陳維恕; | 書刊名 | 工業材料 |
卷 期 | 280 2010.04[民99.04] |
頁 次 | 頁155-159 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 微影技術; 微縮; 雙重圖案化; 電子束直寫; 奈米壓印; 光源-光罩同時最佳化; Lithography technology; Double patterning; EBDW; Nano-imprint; Source-mask co-optimization; |
語 文 | 中文(Chinese) |