查詢結果分析
來源資料
頁籤選單縮合
題 名 | 下世代微影技術之進展與挑戰(上)=NGL Progresses and Challenges (1) |
---|---|
作 者 | 陳維恕; | 書刊名 | 工業材料 |
卷 期 | 279 2010.03[民99.03] |
頁 次 | 頁175-180 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 微影技術; 微縮; 雙重圖案化; 電子束直寫; 奈米壓印; 光源-光罩同時最佳化; Lithography technology; Double patterning; EBDW; Nano-imprint; Source-mask co-optimization; |
語 文 | 中文(Chinese) |