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來源資料
微系統暨奈米科技協會會刊
22 2009.12[民98.12]
頁19-26
工程學總論
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其他非金屬材料
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題名
薄膜化學機械拋光殘留應力分析
作者姓名(中文)
傅尉恩
;
陳炤彰
;
林彥德
;
書刊名
微系統暨奈米科技協會會刊
卷期
22 2009.12[民98.12]
頁次
頁19-26
分類號
440.34
關鍵詞
薄膜材料
;
化學機械拋光
;
殘留應力
;
X-ray低掠角繞射法
;
語文
中文(Chinese)
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