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來源資料
真空科技
18:4 民95.02
頁37-43
工程學總論
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題 名
鋁摻雜氮化鈦薄膜對同之擴散阻礙能力的強化現象=Barrier Strengthening Phenomenon of Aluminum Doped TiN Thin Film Against Copper Diffusion
作 者
許振聲
;
余均躋
;
府玠辰
;
黃子軒
;
游冠霖
;
陳錦山
;
書刊名
真空科技
卷 期
18:4 民95.02
頁 次
頁37-43
專 輯
光電半導體與平面顯示器專輯
分類號
440.39
關鍵詞
銅
;
共生濺鍍
;
擴散
;
語 文
中文(Chinese)
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推文
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