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題 名 | 極紫外光微影光罩技術之探討 |
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作 者 | 李彥旻; 陳偉豪; 李佳翰; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷 期 | 14:9=158 2008.09[民97.09] |
頁 次 | 頁159-170 |
專 輯 | IC製程技術專輯 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 極紫外光微影; 極紫外光光罩; 時域有限差分法; 相位移光罩; Extreme ultraviolet lithography; Extreme ultraviolet masks; Finite-difference time-domain method; Phase-shift masks; |
語 文 | 中文(Chinese) |