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來源資料
科儀新知
29:1=159 2007.08[民96.08]
頁33-43
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題 名
原子層沉積系統原理及其應用=The Principles and Applications of Atomic Layer Deposition
作 者
章詠湟
;
陳智
;
彭智龍
;
書刊名
科儀新知
卷 期
29:1=159 2007.08[民96.08]
頁 次
頁33-43
專 輯
原子層沉積技術與應用專題
分類號
448.552
關鍵詞
原子層沉積
;
製程原理
;
儀器設備
;
半導體工業
;
ALD
;
語 文
中文(Chinese)
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