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來源資料
電子月刊
12:9=134 民95.09
頁168-181
電機工程
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電燈廠
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淺談高介電閘極絕緣層與金屬閘極--氟化與氮化技術之開發
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題名
淺談高介電閘極絕緣層與金屬閘極--氟化與氮化技術之開發
作者姓名(中文)
賴朝松
;
呂增富
;
王志耀
;
楊士正
;
彭興淦
;
范恭鳴
;
潘同明
;
王哲騏
;
吳偉成
;
許惠欣
;
書刊名
電子月刊
卷期
12:9=134 民95.09
頁次
頁168-181
專輯
積體電路技術專輯
分類號
448.57
關鍵詞
高介電閘極
;
絕緣層
;
金屬閘極
;
語文
中文(Chinese)
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