您的瀏覽器不支援或未開啟JavaScript功能,將無法正常使用本系統,請開啟瀏覽器JavaScript功能,以利系統順利執行。
返回
/NclService/
快速連結
跳到主要內容
:::
首頁
關於本站
網站導覽
聯絡我們
國家圖書館
English
開啟查詢結果分析
查詢資訊
期刊論文索引(找篇目)
期刊指南(找期刊)
近代 (1853-1979年) 港澳華文期刊索引
漢學中心典藏大陸期刊論文索引
中國文化研究論文目錄
期刊瀏覽
檢索歷程
期刊授權
出版機構
公佈欄
常見問題
軟體工具下載
:::
首頁
>
查詢資訊
>
期刊論文索引查詢
>
詳目列表
查詢結果分析
來源資料
和春學報
9 2002.09[民91.09]
頁113-117
相關文獻
以液相沈積法製作高品質介電膜及保護層之研究
添加物及原料配方對擠壓緩衝產品機械特性之研究
胎面配方中碳黑與二氧化矽的對比
Airborne Dust Concentration and Particle Size Distribution in Foundries
我國功率半導體元件產業發展策略座談會
工業原料中結晶型游離二氧化矽含量調查
坑道工程人員罹患矽肺症之病例報告
低應力半導體封裝材料之簡介
合成二氧化矽的特性與用途
動態隨機存取記憶體製程技術趨勢
頁籤選單縮合
基本資料
引用格式
國圖館藏目錄
全國期刊聯合目錄
勘誤回報
我要授權
匯出書目
題名
以液相沈積法製作高品質介電膜及保護層之研究
作者
林錦正
;
黃建榮
;
書刊名
和春學報
卷期
9 2002.09[民91.09]
頁次
頁113-117
分類號
448.552
關鍵詞
液相沈積法
;
介電膜
;
二氧化矽
;
半導體元件
;
絕緣層
;
語文
中文(Chinese)
頁籤選單縮合
推文
引用網址
引用嵌入語法
Line
FB
Google bookmarks
本文的引用網址:
複製引用網址
本文的引用網址:
複製引用網址