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題名 | Titanium Dioxides Film Improved by Cosputtering Materials with Ion Beam Sputtering=用離子束濺鍍方法參鍍其他材料以改善二氧化鈦薄膜 |
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作者 | 徐進成; 華魯根; 李正中; | 書刊名 | Fu Jen Studies. Science and Engineering |
卷期 | 37 2003.12[民92.12] |
頁次 | 頁99-111 |
分類號 | 472.16 |
關鍵詞 | 參鍍; 離子束濺鍍; 非晶結構; Cosputtering; Ion-beam sputtering; Amorphous structure; |
語文 | 英文(English) |