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題名 | 簡介下世代微影技術與奈米轉印微影技術 |
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作者 | 鄭瑞庭; 蔡宏營; 林熙翔; 蘇建彰; 陳建洋; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 245 民92.08 |
頁次 | 頁106-116 |
專輯 | 微機電技術專輯 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 下世代微影技術; 表面成像微影技術; 限角度散射投影式電子束微影術; 極短紫外光微影術; 奈米轉印微影術; 步進光感成形式奈米轉印; 墨水式奈米轉印; 雷射成形式直接奈米轉印; NGL; Next generation lithography; TSI; Top-surface imaging; SCALPEL; Scattering with angular imitation projection electron-beam lithography; EUV; Exterme ultravilolent lithography; NIL; Nanoimprint lithography; Step and flash imprint lithography; Soft lithograhy; Laser assisted direct imprint; LADI; |
語文 | 中文(Chinese) |