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來源資料
工業材料
193 2003.01[民92.01]
頁129-135
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題名
半導體濺鍍靶材製程技術與薄膜特性
作者姓名(中文)
陳楷林
;
書刊名
工業材料
卷期
193 2003.01[民92.01]
頁次
頁129-135
專輯
高純度金屬及其氧化物技術專題
分類號
448.552
關鍵詞
濺鍍靶材
;
薄膜表面型態
;
薄膜電阻
;
Sputtering target
;
Al-Si-Cu
;
Film morphology
;
Resistance
;
語文
中文(Chinese)
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