查詢結果分析
來源資料
相關文獻
- 濺鍍用靶材之製造方法介紹
- RAPD標識在番茄雜交一代雜種種子純度鑑定的應用
- 單雜交青割玉米品種之RAPD標識在種子純度鑑定的應用
- Nonlinear Control of a High-Purity Distillation Column
- Simple Purification and Radiochemical Purity Testing of [[fef3]I] Meta Iodobenzylguanidine
- 高純度蒸餾塔之高階控制
- 核能電廠放射性氣體核種快速定性定量分析(2)
- 氣體純度問題之探討
- 鎝氧環丁基丙烯氨圬非鏡像立體異構物作為局部腦血流腦灌注造影劑之動物實驗評估
- PVD濺鍍靶材之應用、市場與發展趨勢
頁籤選單縮合
| 題 名 | 濺鍍用靶材之製造方法介紹=Introduction of Manufacturing Technologies of Sputtering Targets |
|---|---|
| 作 者 | 謝榮淵; | 書刊名 | 技術與訓練 |
| 卷 期 | 27:4=215 2002.08[民91.08] |
| 頁 次 | 頁135-145 |
| 專 輯 | 特殊合金 |
| 分類號 | 440.39 |
| 關鍵詞 | 濺鍍靶材; 純度; 晶粒大小; 優選結晶方向; Sputtering target; Purity; Grain size; Preferred orientation; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |