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題 名 | 製作大粒徑低溫多晶鍺膜技術 |
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作 者 | 郭啟全; 葉文昌; 鄭正元; 蕭致平; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷 期 | 18:2=199 2012.02[民101.02] |
頁 次 | 頁162-174 |
分類號 | 448.59 |
關鍵詞 | 大粒徑多晶鍺膜; 準分子雷射; 結晶; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本研究運用準分子雷射於非晶鍺膜中含與不含感光膜兩種試片進行多晶鍺膜製作。於準分子雷射照射試片期間,運用一個He-Ne雷射檢測光源、一台數位示波器與兩個光偵測器所組成之原位、即時與時間解析線上光學檢測系統,即時監控鍺膜相變化過程。研究結果顯示,藉由試片結構中加入感光膜,鍺膜熔化時間,可由原本試片結構中無加入感光膜之250 ns增加至1,000 ns。此結果證明試片結構中加入感光膜,可以明顯增長鍺膜熔化時間,進而製作出大粒徑低溫多晶鍺膜。本研究藉由單發準分子雷射照射試片結構中加入感光膜之厚度90 nm之非晶鍺膜,在室溫與一般大氣環境下,成功製作出直徑高達12 mm之大粒徑低溫多晶鍺膜。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。