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來源資料
機械工業
233 2002.08[民91.08]
頁97-102
工程學總論
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題名
鑽石薄膜未來發展與應用
作者
謝浚豪
;
劉丙寅
;
賴華堂
;
書刊名
機械工業
卷期
233 2002.08[民91.08]
頁次
頁97-102
專輯
微機電技術專輯
分類號
440.34
關鍵詞
鑽石薄膜
;
應用
;
化學氣相沉積
;
Diamond film
;
Application
;
CVD
;
Chemical vapor deposition
;
語文
中文(Chinese)
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