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題名 | 半導體微影製程中阻劑修飾對製程的影響 |
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作者姓名(中文) | 盧永坤; | 書刊名 | 華夏學報 |
卷期 | 35 2000.12[民89.12] |
頁次 | 頁15113-15140 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 阻劑修飾; 紫外線吸收光譜分析; 可見光吸收光譜分析; 開放式微波消化; 重量分析法; 感應耦合電漿質譜分析; 熱穩定性; 蝕刻抗蝕刻性; Photoresist modification; UV; VIS; Ultra-violet; Visible absorption spectrometry; Visible absorption spectrometry; Open-focused microwave digestion; Gravimetric method; ICP-MS; Inductively coupled plasma-mass spectrometry; Thermal stability; Etching resistance; |
語文 | 中文(Chinese) |