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來源資料
國科會國家毫微米元件實驗室通訊
7:1 2000.02[民89.02]
頁24-27
電機工程
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電燈廠
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下世代微影技術之進展與挑戰(下)
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電子束直寫微影技術
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題 名
LEICA EBML 300電子束直寫對準原理及記號辨識簡介
作 者
郭政達
;
書刊名
國科會國家毫微米元件實驗室通訊
卷 期
7:1 2000.02[民89.02]
頁 次
頁24-27
分類號
448.57
關鍵詞
電子束直寫
;
對準原理
;
記號辨識
;
LEICA EBML 300
;
語 文
中文(Chinese)
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