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題名 | 電解削銳中氧化膜之微觀特性探討 |
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作者 | 趙崇禮; 陳谷良; 許瓊姿; 章少衡; 林宏彝; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 197 1999.08[民88.08] |
頁次 | 頁147-153 |
專輯 | 奈米工程暨微機電系統技術專輯 |
分類號 | 446.895 |
關鍵詞 | 線上磨輪削銳; 氧化膜; 矽; Electrolytic in-process dressing; ELID; Oxide layer; Silicon; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | ELID線上削銳之精密輪磨雖使超微粒磨料磨輪之輪磨加工成為可行,如果各項參 數選取控制得當則其加工所得之結果可與研磨與拋光過程產生之奈米級表面粗糙度之光學等 級表面相比美。但如果ELID削銳之各項參數選取控制不當則其結果反為磨輪損耗過快而表面 形狀精度亦不盡理想。然而因未能對ELID過程中氧化膜之特性及其與各項參數及磨輪特性對 加工表面造成之影響有充分了解,故對如何取得適當的削銳參數及其與磨輪及加工條件間之 關係等問題難以取得較完整之答案。本研究針對ELID削銳中氧化膜之特性及其與削銳/加工 參數間之關係及其對加工表面/次表面造成之影響進行探討分析以期作為發展ELID削銳技術 理論模式之依據。 |
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