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題名 | ICP-MS在半導體材料分析的應用= |
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作者 | 魏文晴; |
期刊 | 科儀新知 |
出版日期 | 19980800 |
卷期 | 20:1=105 1998.08[民87.08] |
頁次 | 頁39-50 |
分類號 | 448.552 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 感應耦合電漿質譜儀; 半導體材料; ICP-MS; |
中文摘要 | 隨著半導體材料對微量不純物分析技術的需求,高靈敏度與低干擾效應的感應耦 合電漿質譜儀(inductively coupled plasma mass spectrometer, ICP-MS)的樣品導入技術, 及半導體材料的樣品前處理技術陸續被發展出來。這些分析技術的建立,可提高儀器靈敏度 及降低儀器測定時的干擾問題,並可實際應用於半導體材料工業的製程管制及品質監控,對 於半導體材料工業的持績發展有著非常重要的影響。本文將就半導體材料的生產與不純物分 析的重要性、感應耦合電漿質譜儀的儀器測定技術、半導體材料分析的應用及分析時所遭遇 的問題與困難作一探討與說明。 |
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