查詢結果分析
來源資料
頁籤選單縮合
題 名 | 金屬矽化物及其應用 |
---|---|
作 者 | 莊敏宏; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷 期 | 2:7=12 1996.07[民85.07] |
頁 次 | 頁53-57 |
專 輯 | 薄膜技術專輯 |
分類號 | 440.34 |
關鍵詞 | 金屬矽化物; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 隨著積體電路技術之日益進步,金屬矽化物已被廣泛的應用於接觸 (contact)及區域連接(local interconnect)等方面,本文將討論金屬矽化物薄膜相關的 形成與應用,其中包括矽化物薄膜之製造、形成機制及材料特性。除此之外,在 電性方面、電阻特性(electric resisitivity)、蕭基二極體(Schottky diode for silicide/Si)、 複晶矽----矽化物閘極(polycide gate)、矽化淺接面(Silicided shallow junction)等相關 的分析,也一併提出。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。