您的瀏覽器不支援或未開啟JavaScript功能,將無法正常使用本系統,請開啟瀏覽器JavaScript功能,以利系統順利執行。
返回
/NclService/
快速連結
跳到主要內容
:::
首頁
關於本站
網站導覽
聯絡我們
國家圖書館
English
開啟查詢結果分析
查詢資訊
期刊論文索引(找篇目)
指令檢索
期刊指南(找期刊)
近代 (1853-1979年) 港澳華文期刊索引
漢學中心典藏大陸期刊論文索引
中國文化研究論文目錄
期刊瀏覽
檢索歷程
期刊授權
出版機構
公佈欄
常見問題
軟體工具下載
:::
首頁
>
查詢資訊
>
期刊論文索引查詢
>
詳目列表
查詢結果分析
來源資料
光學工程
43 1993.03[民82.03]
頁22-31
金屬工藝
>
腐蝕及保護;表面處理
相關文獻
以射頻濺鍍法備製非晶形三氧化鎢薄膜及其感測特性之研究
反應性磁控濺鍍氧化鎢薄膜氧含量對其電致色變性質之影響
濺鍍源電漿狀態之探討
離子槍濺鍍系統在自旋電子元件上的應用與成果
雙離子槍濺鍍系統製備磁性穿遂接面及其高頻磁電特性研究
S-Gun濺鍍系統之原理及應用
平面式基板自動化快速連續濺鍍系統之研發
以磁控濺鍍製備Si/CuSi雙層薄膜應用於藍光光碟之研究
以射頻磁控式共濺鍍系統製作氧化鋅基薄膜電晶體之特性研究
迷你型濺鍍系統
頁籤選單縮合
基本資料
引用格式
國圖館藏目錄
全國期刊聯合目錄
勘誤回報
我要授權
匯出書目
題 名
S-Gun濺鍍系統之原理及應用
作 者
許進明
;
書刊名
光學工程
卷 期
43 1993.03[民82.03]
頁 次
頁22-31
分類號
472.16
關鍵詞
濺鍍系統
;
語 文
中文(Chinese)
頁籤選單縮合
推文
引用網址
引用嵌入語法
Line
FB
Google bookmarks
本文的引用網址:
複製引用網址
本文的引用網址:
複製引用網址