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來源資料
中華工專學報
8 1993.02[民82.02]
頁35-52
電機工程
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題 名
次微米級光阻表面蝕刻元件製程之分析
作 者
林宸生
;
書刊名
中華工專學報
卷 期
8 1993.02[民82.02]
頁 次
頁35-52
分類號
448.57
關鍵詞
元件
;
次微米
;
表面
;
級光阻
;
蝕刻
;
製程
;
語 文
中文(Chinese)
中文摘要
本文的日的是推導一簡明的數學模式以證明科氏力對追蹤偵測波之作 用。又因海水流經地磁,所產生之電磁力與此科氏力之合成而會對偵測波束的走 向另行更改。理由和說明詳述於本文中。
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。
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