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來源資料
工業材料
445 2024.01[民113.01]
頁138-150
電機工程
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半導體及其他電子裝置
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題 名
化合物半導體製程用CVD SiC鍍膜技術=CVD SiC Coating Technology for Compound Semiconductor Process
作 者
吳金寶
;
陳泰盛
;
黃俊偉
;
書刊名
工業材料
卷 期
445 2024.01[民113.01]
頁 次
頁138-150
分類號
448.65
關鍵詞
石墨
;
碳化矽鍍膜
;
化合物半導體
;
Carbon
;
SiC coatings
;
Compound semiconductor
;
語 文
中文(Chinese)
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