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| 題 名 | 半導體業砷暴露作業勞工體內砷甲基化作用與氧化壓力研究=Study on Methylation Efficiency in Relation to Oxidative Stress in Semiconductor Workers Exposed to Arsenic |
|---|---|
| 作 者 | 潘致弘; 方亭予; | 書刊名 | 勞動及職業安全衛生研究季刊 |
| 卷 期 | 31:2 2023.06[民112.06] |
| 頁 次 | 頁65-78 |
| 分類號 | 412.78 |
| 關鍵詞 | 砷; 無機砷代謝物; 體內砷甲基化作用; 半導體業勞工; 氧化壓力; Arsenic; Inorganic arsenic metabolites; Methylation efficiency; Semiconductor workers; Oxidative stress; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |