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| 題 名 | 雙圖樣微影技術之色彩平衡=Color Balancing for Double Patterning |
|---|---|
| 作 者 | 郭育吟; 王瑞宇; 鄭維凱; | 書刊名 | 先進工程學刊 |
| 卷 期 | 12:3 2017.10[民106.10] |
| 頁 次 | 頁121-125 |
| 分類號 | 448.552 |
| 關鍵詞 | 雙圖樣微影技術; 曝光; 蝕刻; 雙塗色問題; 色彩平衡; Double patterning; Exposure; Etch; 2-coloring problem; Color balancing; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |
| 中文摘要 | 雙圖樣微影技術在製程當中,必須分別做兩次不同的曝光及硬遮罩蝕刻。而決定各個矩形(shape)分別屬於哪一個光罩的範圍則是整個技術的主軸。通常雙圖樣微影技術的問題可以轉換為使用兩種顏色的塗色問題。在決定好各個矩形的顏色之後,可以清楚知道:相同的顏色代表是同一層的光罩。本論文中我們開發一雙塗色演算法使矩形的顏色分佈比例趨近一致,進而達到色彩平衡並符合雙圖樣微影技術的製程要求。 |
| 英文摘要 | In double patterning processing, it must do twice different exposure step and hard-mask etch. Moreover, how to decide each shape is belonging to which hard-mask is the kernel problem of this technology. In this paper, we turn this double patterning problem into 2-coloring problem. Furthermore, we show that the shapes with identical color is representing the same hard-mask. We make the distribution of two colors to be as balanced as possible, in order to achieve color balancing and the demands of double patterning technology. |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。