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題 名 | 近場光學光纖探針製作與曝光研究 |
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作 者 | 顏妙璇; 蔡定平; 羅士哲; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 197 1999.08[民88.08] |
頁 次 | 頁94-104 |
專 輯 | 奈米工程暨微機電系統技術專輯 |
分類號 | 336.9 |
關鍵詞 | 近場光學; 奈米光學曝光; 近場光學探針; Near-field optics; Nano-lithography; Near-field optical fiber; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本文是以近場光學原理來發展奈米量級之曝光方法,以突破遠場光學中之繞射極 限(約半個波長的大小)的限制。文中將簡介如何製作光學孔穴介於50nm至300nm之間的光纖 探針,並且實驗其在高分子感光膜上的近場光學曝光功能與效果,以達發展新式奈米量級光 學曝光技術的目的。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。