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| 題 名 | 常壓電漿束於矽蝕刻之應用=Silicon Wafer Etching Technology by Atmospheric-Pressure Plasma |
|---|---|
| 作 者 | 劉志宏; 黃駿; 劉威霆; | 書刊名 | 機械工業 |
| 卷 期 | 414 2017.09[民106.09] |
| 頁 次 | 頁65-71 |
| 專 輯 | 先進製造技術專輯 |
| 分類號 | 448.552 |
| 關鍵詞 | 常壓電漿; 電漿蝕刻; 無光罩製程; Atmospheric-pressure plasma; Plasma etching; Maskless processing; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |