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題名 | 奈米鑽石石墨研磨墊應用於化學機械研磨移除晶圓氧化層特性之研究=Investigation of a Novel Nanodiamond-Impregnated Polishing Pad for Oxide Chemical Mechanical Polishing |
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作者姓名(中文) | 蔡明義; 陳建勳; | 書刊名 | 技術學刊 |
卷期 | 28:4 2013.12[民102.12] |
頁次 | 頁235-241 |
分類號 | 446.895 |
關鍵詞 | 化學機械研磨; 奈米鑽石石墨研磨墊; 晶圓移除率; 研磨墊修整率; Chemical mechanical polishing; Polishing pad; Diamond disk; |
語文 | 中文(Chinese) |