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題 名 | Influence of Annealing Temperature on the Mechanical Properties of Sige Epitaxial Thin Film=退火溫度對矽鍺薄膜機械性質之影響 |
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作 者 | 戴慶良; 張原銘; | 書刊名 | 興大工程學刊 |
卷 期 | 23:2 2012.07[民101.07] |
頁 次 | 頁51-57 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 矽鍺薄膜; 殘留應力; 楊氏係數; 奈米壓痕試驗; SiGe thin film; Residual stress; Young's modulus; Nanoindentation; |
語 文 | 中文(Chinese);英文(English) |