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題 名 | 氧化鋅透明導電膜之原子層沉積製程與設備技術=ALD Process and Equipment for the Growth of Transparent Conductive Zinc Oxide Films |
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作 者 | 嚴國藝; 邱建華; 李俊緯; 林沛鋅; 王慶鈞; 黃振榮; 梁沐旺; 吳慶輝; 羅展興; 龔志榮; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 350 2012.05[民101.05] |
頁 次 | 頁84-90 |
專 輯 | 光電產業設備技術專輯 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 原子層沉積; 透明導電層; 氧化鋅; Atomic layer deposition; ALD; Transparent Conductive layer; TCL; Zinc oxide; ZnO; |
語 文 | 中文(Chinese) |