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來源資料
真空科技
23:2 2010.06[民99.06]
頁56-61
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題 名
氧化鋅薄膜原子層沉積之研究=ZnO Films Prepared by Atomic Layer Deposition
作 者
劉光璧
;
嚴國藝
;
龔志榮
;
蕭琦穎
;
楊竣雄
;
紀威旭
;
呂東原
;
林泰源
;
王慶鈞
;
李侃峰
;
黃振榮
;
梁沐旺
;
吳慶輝
;
羅展興
;
書刊名
真空科技
卷 期
23:2 2010.06[民99.06]
頁 次
頁56-61
分類號
448.552
關鍵詞
原子層沉積
;
氧化鋅
;
Atomic layer deposition
;
Zinc oxide
;
語 文
中文(Chinese)
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