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題名 | MOCVD反應器之氣流場模擬分析=Analysis of Gas Field in MOCVD Reactor |
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作者 | 黃智勇; 謝文宗; 王慶鈞; 陳建志; |
期刊 | 機械工程 |
出版日期 | 20110900 |
卷期 | 278 2011.09[民100.09] |
頁次 | 頁44-50 |
分類號 | 448.5 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 有機化學氣相沉積; 擴散; 層流; 熱浮力; 擴散熱效應; 磊晶; Metal organic chemical vapor deposition; Diffusion; Laminar flow; Thermal buoyancy effect; Diffusion-thermal effect; Epitaxy; |