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| 題 名 | MOCVD反應器之氣流場模擬分析=Analysis of Gas Field in MOCVD Reactor |
|---|---|
| 作 者 | 黃智勇; 謝文宗; 王慶鈞; 陳建志; | 書刊名 | 機械工程 |
| 卷 期 | 278 2011.09[民100.09] |
| 頁 次 | 頁44-50 |
| 分類號 | 448.5 |
| 關鍵詞 | 有機化學氣相沉積; 擴散; 層流; 熱浮力; 擴散熱效應; 磊晶; Metal organic chemical vapor deposition; Diffusion; Laminar flow; Thermal buoyancy effect; Diffusion-thermal effect; Epitaxy; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |