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題 名 | MOCVD反應器之氣流場模擬分析=Analysis os Gas Field in MOCVD Reactor |
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作 者 | 黃智勇; 謝文宗; 王慶鈞; 陳建志; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 326 2010.05[民99.05] |
頁 次 | 頁96-102 |
專 輯 | 光電產業設備技術專輯 |
關鍵詞 | 有機化學氣相沉積; 擴散; 層流; 熱浮力; 擴散熱效應; 磊晶; Metal organic chemical vapor deposition; Diffusion; Laminar flow; Thermal buoyancy effect; Diffusion-thermal effect; Epitaxy; |
語 文 | 中文(Chinese) |