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| 題 名 | 大面積電漿源鍍膜技術介紹=Study of Large-Area Plasma Deposition Technology |
|---|---|
| 作 者 | 吳佩珊; 董福慶; | 書刊名 | 機械工程 |
| 卷 期 | 276 2011.03[民100.03] |
| 頁 次 | 頁50-59 |
| 分類號 | 448.533 |
| 關鍵詞 | 電漿源; 電漿輔助化學氣相沉積; 大面積鍍膜技術; Plasma source; PECVD; Large-area deposition technology; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |