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題 名 | 大面積電漿源鍍膜技術介紹=Study of Large-area Plasma Deposition Technology |
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作 者 | 吳佩珊; 董福慶; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 314 2009.05[民98.05] |
頁 次 | 頁65-74 |
專 輯 | 太陽光電製程設備技術專輯 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 電漿源; 電漿輔助化學氣相沉積; 大面積鍍膜技術; Plasma source; PECVD; Large-area deposition technology; |
語 文 | 中文(Chinese) |