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題 名 | LCD用高濺鍍速率鋁靶開發=Development of High Sputtering Rate Aluminum Target for Liquid Crystal Display |
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作 者 | 洪胤庭; 邱軍浩; 黃宏勝; 謝榮淵; | 書刊名 | 鑛冶 |
卷 期 | 54:4=212 2010.12[民99.12] |
頁 次 | 頁31-39 |
分類號 | 472.5 |
關鍵詞 | 高純度鋁靶; 濺鍍速率; 織構; 顯微組織; High purity aluminum target; Sputtering rate; Texture; Microstructure; |
語 文 | 中文(Chinese) |