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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:3 2001.08[民90.08]
- 頁 次:
頁164-168
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:1 2003.02[民92.02]
- 頁 次:
頁12-17
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題 名:
(Ce[9058]Fe[fec5])□Fe□Ti₂Co□B□(X=0-1 ; y=0及2.5)複合奈米晶薄帶磁性及相變化之研究:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:1 民95.02
- 頁 次:
頁17-21
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
40:1 2015.02[民104.02]
- 頁 次:
頁51-56
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
37:3 2012.08[民101.08]
- 頁 次:
頁177-185
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
29:3 2004.08[民93.08]
- 頁 次:
頁138-145
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
40:2 2015.05[民104.05]
- 頁 次:
頁127-136
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
41:3 2016.08[民105.08]
- 頁 次:
頁177-183
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
41:3 2016.08[民105.08]
- 頁 次:
頁184-189
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
39:3 2014.08[民103.08]
- 頁 次:
頁44-51
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題 名:
光電產業用濺鍍鉬靶開發:Development of Molybdenum Sputtering Targets for Using in Optoelectronics Industries
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
58:2=226 2014.06[民103.06]
- 頁 次:
頁50-58
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:3 民94.08
- 頁 次:
頁146-151
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:4 2011.11[民100.11]
- 頁 次:
頁215-224
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:4 2011.11[民100.11]
- 頁 次:
頁233-241
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題 名:
LCD用高濺鍍速率鋁靶開發:Development of High Sputtering Rate Aluminum Target for Liquid Crystal Display
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
54:4=212 2010.12[民99.12]
- 頁 次:
頁31-39
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:4 民95.11
- 頁 次:
頁232-238
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2007.08[民96.08]
- 頁 次:
頁164-169
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:4 民94.11
- 頁 次:
頁34-38
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題 名:
藍光光碟及光記錄材料的發展:Blu-ray Disc and Current Development of Materials for Optical Data Storage
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:4=245 2008.12[民97.12]
- 頁 次:
頁94-103
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題 名:
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題 名:
濺鍍技術應用與薄膜性質分析:Application of Sputtering Technology and Analysis of Thin Film Properties
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:4=245 2008.12[民97.12]
- 頁 次:
頁145-155
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題 名: