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題名 | X光繞射分析在半導體工業上的應用=X-ray Diffraction Utilized in the Semiconductor Industry |
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作者姓名(中文) | 鄧建龍; 姚潔宜; 張茂男; | 書刊名 | 奈米通訊 |
卷期 | 15:4 2008.12[民97.12] |
頁次 | 頁6-9 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 掠角X光繞射; 回擺曲線; X光反射率; 倒置空間圖; Grazing incident X-ray diffraction; GIXRD; Rocking curve; X-ray reflectometry; XRR; Reciprocal space mapping; RSM; |
語文 | 中文(Chinese) |