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題名 | 氧氣氛與厚度對雷射鍍膜沉積之氧化鋅磊晶薄膜初始成長狀態之影響=Oxygen Pressure and Thickness Effect on ZnO Epilayers on c-Sapphire by Pulsed Laser Deposition |
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作者 | 林伯融; 傅于娟; 劉淑萍; 武東星; 洪瑞華; | 書刊名 | 真空科技 |
卷期 | 23:1 2010.03[民99.03] |
頁次 | 頁33-38 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 脈衝雷射沉積; 氧化鋅; X光繞射; 倒置空間圖; Pulsed laser deposition; ZnO; X-ray diffraction; Reciprocal space mapping; |
語文 | 中文(Chinese) |