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題 名 | 探討低溫化學溶液沉積法成長氧化鋅磊晶薄膜之熱誘發孔洞現象=Investigation on the Formation of Thermally Induced Pores in Epitaxial ZnO Films Grown by Low Temperature Chemical Solution Deposition |
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作 者 | 陳厚光; 余明陽; 鄭芝婷; | 書刊名 | 真空科技 |
卷 期 | 28:4 2015.12[民104.12] |
頁 次 | 頁27-35 |
分類號 | 440.34 |
關鍵詞 | 氧化鋅; 化學溶液沉積法; X光繞射; X光電子能譜儀; 退火處理; ZnO; Chemical solution deposition; X-ray diffraction; X-ray photoelectron spectroscopy; Anneal treatment; |
語 文 | 中文(Chinese) |