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來源資料
科儀新知
24:3=131 2002.12[民91.12]
頁52-57
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題 名
X光反射率在奈米半導體製程的新應用=X-Ray Reflectivity in Advanced Semiconductor Applications
作 者
蔡增光
;
林文智
;
卓恩宗
;
書刊名
科儀新知
卷 期
24:3=131 2002.12[民91.12]
頁 次
頁52-57
專 輯
半導體材料分析技術專題
分類號
448.552
關鍵詞
X光反射率
;
奈米半導體
;
語 文
中文(Chinese)
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