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題 名 | 厚膜光阻加工技術 |
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作 者 | 康德人; 楊貴朱; 楊燦楠; | 書刊名 | 新新季刊 |
卷 期 | 36:1 2008.01[民97.01] |
頁 次 | 頁83-92 |
專 輯 | 微系統技術及其應用 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 厚膜光阻; 微細加工技術; SU8; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 厚膜光阻曝光顯影技術在微機電加工技術裡是一非常重要的加工技術,由於微機電系統常需要複雜高深寬比、廉價、高效率的結構元件,厚膜光阻曝光顯影技術正好滿足此一需求,國外文獻顯示加工深寬比可達100 (厚度1000微米、最小結構寬度10微米)。本文主要針對近年來微機電技術中被廣泛使用的厚膜光阻SU8 UV曝光顯影加工技術作一介紹說明,並且對於其常見加工問題,提出嶄新的加工模式及解決辦法,對於未來本院高深寬比微結構加工技術,提供一完整的解決方案。 |
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