頁籤選單縮合
| 題 名 | 厚膜光阻微影系統簡介 |
|---|---|
| 作 者 | 丁志華; 蔡來福; 陳建光; | 書刊名 | 奈米通訊 |
| 卷 期 | 10:2 2003.05[民92.05] |
| 頁 次 | 頁30-42 |
| 分類號 | 448.57 |
| 關鍵詞 | 厚膜光阻微影; 光罩對準曝光系統; 光阻塗佈顯影系統; 近接式曝光; 雙面對準; 楔形誤差補償前端; 關蓋旋塗技術; 反放射滴液法; Thick-photoresist lithography; Mask Aligner; Track; Proximity printing; Double-side alignment; Wedge error compensation head; WEC; Closed cover spin; GYRSET technology; Reverse radial dispense; RRD; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |