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題 名 | 利用多晶矽犧牲層製作奈米厚度單晶矽薄膜=A Method for Fabricating Nano-thick Single Crystal Silicon Thin Film Using Polysilicon Sacrificial Layer |
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作 者 | 黃敬涵; 楊耀渝; 張朝喨; 李佩雯; 李雄; 李天賜; | 書刊名 | 清雲學報 |
卷 期 | 27:1 2007.03[民96.03] |
頁 次 | 頁51-58 |
分類號 | 448.533 |
關鍵詞 | 氫離子; 犧牲層; 多晶矽; 絕緣層矽晶; TMAH蝕刻; Hydrogen ion; Sacrificial layer; Polysilicon; SOI; TMAH etching; |
語 文 | 中文(Chinese) |