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題名 | 奈米刻板技術之發展概況=The Development of the Nano Mastering Technology |
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作者 | 張勝立; | 書刊名 | 臺灣奈米會刊 |
卷期 | 5 民95.05 |
頁次 | 頁52-58 |
專輯 | 奈米光電 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 光敏式雷射刻板; 熱敏式雷射刻板; 光學繞射極限; 訊號坑; 軌距; 阻劑材料; 蝕刻液; Photo mode laser recording; Thermal mode laser recording; Optical diffraction limit; Pit; Track pitch; Resist material; Etch solution; |
語文 | 中文(Chinese) |