查詢結果分析
來源資料
頁籤選單縮合
題名 | 奈米級405nm藍光雷射直寫微影系統開發=Development of 405nm Blue Laser Beam Direct-Write Lithography Instrument for Nano Patterning Application |
---|---|
作者 | 楊錦添; 朱朝居; | 書刊名 | 臺灣奈米會刊 |
卷期 | 22 2010.09[民99.09] |
頁次 | 頁7-18 |
專輯 | 奈米光電 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 奈米微影; 雷射光束直寫微影; 熱寫式微影; 奈米結構; 轉印母模; 光學繞射極限; Nano-lithography; Laser beam direct-write lithography; Thermal mode lithography; Nano structure; Stamping mold; Optical diffraction limit; |
語文 | 中文(Chinese) |