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題名 | 以原子力顯微鏡製作奈米結構 |
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作者 | 吳忠霖; 簡世森; 果尚志; | 書刊名 | 物理雙月刊 |
卷期 | 21:4 1999.08[民88.08] |
頁次 | 頁429-436 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 原子力顯微鏡; 奈米結構; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本文在介紹以原子力顯微鏡於矽(110)晶面上產生氧化圖像,並以濕式蝕刻的方法做圖像轉移而製作出奈米結構。我們舉出兩個實驗的例子。一是一維的矽光柵,其迥期在400nm以下,矽的寬度只有57nm。另一是二維的六邊形凹槽陣列,其尺寸在175nm在400nm之間。此一方法將可應用在奈米結構的製作,如光子晶體、光導光柵,或是奈米結構之磁、光、電等性質之研究性。 |
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