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來源資料
奈米通訊
11:2 2004.05[民93.05]
頁36-38
相關文獻
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題 名
利用表面NH[feb0]氮化處理得到高品質的三氧化二鋁複晶矽層間介電層
作 者
陳永裕
;
簡昭欣
;
羅正忠
;
書刊名
奈米通訊
卷 期
11:2 2004.05[民93.05]
頁 次
頁36-38
分類號
448.552
關鍵詞
表面氮化處理
;
三氧化二鋁
;
複晶矽層間介電層
;
語 文
中文(Chinese)
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