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題名 | 淺溝渠元件隔離技術現況與挑戰 |
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作者 | 蔡明蒔; | 書刊名 | 奈米通訊 |
卷期 | 10:2 2003.05[民92.05] |
頁次 | 頁43-48 |
分類號 | 448.533 |
關鍵詞 | 淺溝渠隔離技術; 固定式砥粒研磨; 化學機械研磨; 高選擇比研漿; Shallow trench isolation; Fixed abrasive polishing; Direct CMP; High selectivity slurry; |
語文 | 中文(Chinese) |