您的瀏覽器不支援或未開啟JavaScript功能,將無法正常使用本系統,請開啟瀏覽器JavaScript功能,以利系統順利執行。
返回
/NclService/
快速連結
跳到主要內容
:::
首頁
關於本站
網站導覽
聯絡我們
國家圖書館
English
開啟查詢結果分析
查詢資訊
期刊論文索引(找篇目)
期刊指南(找期刊)
近代 (1853-1979年) 港澳華文期刊索引
漢學中心典藏大陸期刊論文索引
中國文化研究論文目錄
期刊瀏覽
檢索歷程
期刊授權
出版機構
公佈欄
常見問題
軟體工具下載
:::
首頁
>
查詢資訊
>
期刊論文索引查詢
>
查詢結果
>
詳目列表
查詢結果分析
來源資料
電子月刊
20:9=230 2014.09[民103.09]
頁46-55
電機工程
>
電燈廠
相關文獻
極紫外光微影光源的發展現況
極紫外光微影光源基礎與發展現況
IC用深紫外光光阻簡介
奈米世代微影技術之原理及應用
IC光阻材料技術發展
A Web-based Educational Tool for the Lithographic Optics Utilized in Semiconductor Processing Technology
IC光阻材料技術發展
浸潤式微影技術簡介
半導體製程演進重要推手--奈米世代微影技術之原理及應用
下世代微影技術演進與現況
第13筆 /總和 19 筆
跳頁至
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
/ 19 筆
回查詢結果
頁籤選單縮合
基本資料
引用格式
國圖館藏目錄
全國期刊聯合目錄
勘誤回報
我要授權
匯出書目
題 名
極紫外光微影光源的發展現況
作 者
許博淵
;
書刊名
電子月刊
卷 期
20:9=230 2014.09[民103.09]
頁 次
頁46-55
專 輯
IC製程技術專輯
分類號
448.57
關鍵詞
極紫外光
;
光源
;
微影技術
;
半導體製程
;
自由電子雷射
;
語 文
中文(Chinese)
頁籤選單縮合
推文
引用網址
引用嵌入語法
Line
FB
Google bookmarks
本文的引用網址:
複製引用網址
本文的引用網址:
複製引用網址